Determination of band gap of semiconductor material in end product

Вантажиться...
Ескіз
Дата
2014
Науковий керівник
Укладач
Редактор
Назва журналу
ISSN
E-ISSN
Назва тому
Видавець
Одесский национальный университет имени И. И. Мечникова
Анотація
The paper puts forward a method for determination of semiconductor activation energy in end product. It is illustrated that band gap can be calculated at cutoffs on both axes of graphs ln(I) ÷U, measured at different temperatures. Minimum temperature interval is determined depending on measuring accuracy. A new method for determination of value Eg without VAC extrapolation is put forward.
Запропоновано метод визначення енергії активації напівпровідника в готовому виробі. Показано, що ширину забороненої зони можливо розрахувати по відсічкам на обох осях графіків ln(I)÷U, виміряних при різних температурах. Визначений мінімальний температурний інтервал в залежності від точності вимірювань. Вказано новий засіб визначення Еg без екстраполяції ВАХ.
Предложен метод определения энергии активации полупроводника в готовом изделии. Показано, что ширину запрещённой зоны можно рассчитать по отсечкам на обеих осях графиков ln(I)÷U, измеренных при разных температурах. Определён минимальный температурный интервал в зависимости от точности измерений. Указан новый способ определения величины Еg без экстраполяции ВАХ.
Опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса, 2014. - англ
Ключові слова
determination of band gap, semiconductor material, activation energy, ширина забороненої зони, енергія активації, напівпровідник, ширина запрещенной зоны, энергия активации, полупроводник
Бібліографічний опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics
DOI
ORCID:
УДК
Зібрання