Перегляд за Автор "Bogdan, O. V."

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    EFFECT OF SULPHUR ATOMS ON SURFACE CURRENT IN GAAS P-N JUNCTIONS
    (Астропринт, 2008) Ptashchenko, Oleksandr O.; Ptashchenko, Fedir O.; Masleyeva, N. V.; Bogdan, O. V.; Shugarova, V. V.; Птащенко, Олександр Олександрович; Птащенко, Федір Олександрович; Маслєєва, Наталя Володимирівна; Богдан, О. В.; Шугарова, В. В.; Птащенко, Александр Александрович; Птащенко, Федор Александрович; Маслеева, Наталья Владимировна; Богдан, О. В.; Шугарова, В. В.
    Sulphur atoms passivation of GaAs surface and its influence on I-V characteristics of forward and reverse currents, photocurrent spectrum, and sensitivity of GaAs p-n structures as gas sensors were studied. The passivation reduces the excess forward current and reverse current in p-n junctions, enhances the photosensitivity in the spectral region of strong absorption, substantially increases the sensitivity to ammonia vapors. All these effects are explained, taking into account lowering of the surface states density as a result of sulphur atoms deposition. Досліджено пасивацію поверхні GaAs атомами сірки та її вплив на ВАХ прямого і зворотного струмів, спектр фотоструму і чутливість p-n переходів на основі GaAs як газових сенсорів. Пасивація зменшує надлишковий прямий струм та зворотний струм у p-n переходах, підвищує фоточутливість у спектральній області сильного поглинання, суттєво збільшує чутливість до парів аміаку. Всі ці явища пояснюються зменшенням щільності поверхневих станів у результаті нанесення на поверхню атомів сірки. Исследованы пассивация поверхности GaAs атомами серы и ее влияние на ВАХ прямого и обратного токов, спектр фототока и чувствительность p-n переходов на основе GaAs как газовых сенсоров. Пассивация уменьшает избыточный прямой ток и обратный ток в p-n переходах, повышает фоточувствительность в спектральной области сильного поглощения, существенно повышает чувствительность к парам аммиака. Все эти явления объясняются уменьшением плотности поверхностных состояний в результате нанесения на поверхность атомов серы.
  • Ескіз
    Документ
    SURFACE CURRENT IN GaAs P-N JUNCTIONS, PASSIVATED BY SULPHUR ATOMS
    (Астропринт, 2009) Ptashchenko, Oleksandr O.; Ptashchenko, Fedir O.; Masleyeva, N. V.; Bogdan, O. V.; Птащенко, Александр Александрович; Птащенко, Федор Александрович; Маслеева, Наталья Владимировна; Богдан, О. В.; Птащенко, Олександр Олександрович; Птащенко, Федір Олександрович; Маслєєва, Наталя Володимирівна; Богдан, О. В.
    Influence of the storage (low-temperature annealing) of sulphur-passivated GaAs p-n structures in a neutral (helium) atmosphere at room temperature on I-V characteristics of forward and reverse currents was studied. The storage strongly reduces the excess forward current and the reverse current in p-n junctions. The ideality coefficient of I-V characteristics decreases with the storage. This effect has two stages. It is showed that all these phenomena can be explained by lowering of the surface recombination centers density and reduction of the electrically active centers concentration in the surface depletion layer. Исследовано влияние хранения (низкотемпературного отжига) пассивированных атомами серы p-n переходов на основе GaAs в нейтральной атмосфере (в гелии) при комнатной температуре на ВАХ прямого и обратного токов. При хранении существенно уменьшаются прямой избыточный ток и обратный ток в p-n переходах. Коэффициент идеальности ВАХ уменьшается в процессе хранения. Этот процесс двухстадийный. Показано, что все эти явления можно объяснить уменьшением плотности поверхностных центров рекомбинации и уменьшением концентрации электрически активных центров в поверхностном обедненном слое. Досліджено вплив зберігання (низькотемпературного відпалу) пасивованих атомами сірки p-n переходів на основі GaAs у нейтральній атмосфері (в гелії) при кімнатній температурі на ВАХ прямого і зворотного струмів. При зберіганні значно зменшуються надлишковий прямий струм та зворотний струм у p-n переходах. Коефіцієнт ідеальності ВАХ зменшується процесі зберігання. Даний процес є двостадійний. Показано, що всі ці явища можна пояснити зменшенням щільності поверхневих центрів рекомбінації та зменшенням концентрації електрично активних центрів у поверхневому збідненому шарі.