Atom Force Microscopy of SnO2 Nano Layers

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorFilevska, Liudmila M.
dc.contributor.authorSmyntyna, Valentyn A.
dc.contributor.authorHrinevych, Viktor S.
dc.date.accessioned2017-11-30T10:28:50Z
dc.date.available2017-11-30T10:28:50Z
dc.date.issued2006
dc.description.abstractThe gas sensitivity applied problems solutions need a consideration and detailed investigation of the material's electronic and ionic subsystems' behavior. These systems' behavior at their own turn is tightly connected with the structure and morphology of surfaces. The morphology investigations results are given for the SnO2 layers obtained with the polymers usage.uk
dc.identifierDOI: 10.1109/SMICND.2006.283932
dc.identifier.citationIEEE International Semiconductor Conference (CAS 2006).uk
dc.identifier.urihttps://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/11627
dc.language.isoenuk
dc.subjectgasuk
dc.subjectsensitivity applieduk
dc.subjectsolutions needuk
dc.titleAtom Force Microscopy of SnO2 Nano Layersuk
dc.typeArticleuk
Файли
Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
63-66.pdf
Розмір:
3.13 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
1.71 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити
Зібрання
Статті та доповіді ФМФІТ