Перегляд за Автор "Myndrul, Valerii B."
Зараз показуємо 1 - 2 з 2
Результатів на сторінці
Налаштування сортування
Документ Determination in mobility of non-equilibrium carriers considering motion velocity distribution(Одесский национальный университет имени И. И. Мечникова, 2013) Myndrul, Valerii B.; Bak, A. Yu.; Karakis, Yurii M.; Kutalova, Mariia I.; Zatovska, Nataliia P.; Zubrytskyi, Serhii V.; Мындрул, Валерий Борисович; Бак, А. Ю.; Каракис, Юрий Николаевич; Куталова, Мария Ивановна; Затовская, Наталия Петровна; Зубрицкий, Сергей Всеволодович; Миндрул, Валерій Борисович; Каракіс, Юрій Миколайович; Куталова, Марія Іванівна; Затовська, Наталія Петрівна; Зубрицький, Сергій ВсеволодовичThe particularities of contact influence on processes of current rise in crystal at the expense of nonequilibrium charge were investigated. The procedure to determine carrier active mobility for the case of considerable asymmetry in their velocity distribution was developed.Документ Silicon nanopillars forming and covering by Zn and Ti oxides for solar energy applications and biosensorics(Одеський національний університет імені І. І. Мечникова, 2017) Brytavskyi, Yevhen V.; Tereshchenko, Alla V.; Myndrul, Valerii B.; Pavlenko, Mykola V.; Smyntyna, Valentyn A.; Бритавський, Євген Вікторович; Терещенко, Алла Володимирівна; Миндрул, Валерій Борисович; Павленко, Микола Миколайович; Сминтина, Валентин Андрійович; Бритавский, Евгений Викторович; Терещенко, Алла Владимировна; Мындрул, Валерий Борисович; Павленко, Николай Николаевич; Смынтына, Валентин АндреевичThe work is focused on technology and characterization issues of silicon pillar nanostructures in combination with metal oxides, such as ZnO and TiO2, for various applications in field of biosensor and solar energy. The metal-assisted chemical etching method (MACE) modified with latex nanobeads lithography and spin-coating technique, was used to fabricate the uniform silicon nanopillar arrays. Atomic layer deposition technique (ALD) which is utilized for formation of oxide layers displays uniform coverage of the arrays and provides thin film formation independently on surface peculiarities. Therefore, it can be applied both for planar samples and 3D patterned substrates with porous media.