Kurmashev, Shamil D.Buhaiova, T. M.Lavrenova, T. I.Sadova, N. N.Курмашев, Шамиль ДжамашевичБугаева, Т. Н.Лавренова, Т. И.Садова, Н. Н.Курмашев, Шаміль ДжамашевичБугайова, Т. М.Лавренова, Т. І.Садова, Н. Н.2010-09-102010-09-102009Фотоэлектроника = Photoelectronicshttps://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/277Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2009.Influence of quantitative and qualitive (phase and granule-metric) composition of initial components on the electro physical properties of thick films on the base of the systems “glass — clusters RuO2, Bi2Ru2O7” was investigated. At the fixed values of functional material content mf (RuO2) and glass phase mg, the increase of mass of crystalline phase mcr leads to decrease of conductivity, therefore to the increase of resistance of resistive layer. Исследовано влияние количественного и качественного (фазовый и гранулометрический) состава исходных компонентов на электрофизические параметры толстых пленок на базе систем “стекло — кластеры RuO2, Bi2Ru2O7”. При заданных величинах содержания функционального материала (RuO2) и стеклянной фазы увеличение массы кристаллической фазы приводит к увеличению сопротивления резистивной пленки. Досліджено вплив кількісного та якісного (фазовий і гранулометричний) складу вихідних компонентів на електрофізичн і параметри товстих плівок на базі систем “скло — кластери RuO2, Bi2Ru2O7”. При заданих величинах вмісту функціонального матеріалу (RuO2) і скляної фази збільшення маси кристалічної фази призводить до зменшення величини провідності, тобто до збільшення опору резистивної плівки.ensructurephaseresistancelayerструктурафазасопротивлениеплёнкаструктурафазаопірплівкаArticle