Веревкин, Г. Г.Загинайло, И. В.Ковалев, Юрий Витальевич2018-06-012018-06-011999Фотоэлектроника = Photoelectronics681.14:535.8https://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/16427Предлагаемый в статье метод дифракции в слабосходящемся пучке когерентного монохроматического излучения показывает высокие результаты по чувствительности к дефектам фотошаблонов. При этом важную роль играет правильный выбор фотоматериала для изготовления пространственного фильтра. Аппаратная реализация предлагаемого метода контроля дефектности фотошаблонов легко реализуется на базе современного стандартного оборудования, что может быть полезным для повышения качества производства интегральных схем с высокой плотностью размещения элементов.ruФурье-контрольфотошаблонметод дифракцииинетральная системаArticle