Раскола, Людмила АнатольевнаRaskola, Liudmyla A.Раскола, Людмила Анатоліївна2010-09-142010-09-142007Вiсник Одеського нацiонального унiверситету = Odessa National University Heraldhttps://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/347Вiсник Одеського нацiонального унiверситету = Вестник Одесского национального университета / ОНУ імені І. І. Мечникова. - Одеса : Астропринт, 2007. - Том 12, Вип. 1-2: Сер. "Хімія". - укр. та рос.Изучена кинетика низкотемпературного разложения озона хлоридными комплексами меди(II), закрепленными методом импрегнирования на силикагеле. Впервые рассчитаны последовательные константы устойчивости поверхностных комплексов и парциальные кинетические константы, характеризующие их активность в реакции разложения озона. Показано, что с увеличением числа хлорид-ионов в координационной сфере меди(II) активность комплексов возрастает. Предложен механизм разложения озона. Вивчено кінетику низькотемпературного розкладу озону хлоридними комплексами міді(II), закріпленими методом імпрегнування на силікагелі. Вперше розраховані послідовні константи стійкості поверхневих комплексів і парціальні кінетичні константи, що характеризують їх активність у реакції розкладу озону. Показано, що зі збільшенням числа хлорид-іонів у координаційній сфері міді(II) активність комплексів зростає. Запропоновано механізм розкладу озону. The kinetics of low-temperature ozone decomposition by copper(II) chloride complexes anchored on SiO2 by its impregnation has been studied. First, successive stability constants of these surface complexes and partial kinetic constants characterizing their activity in the ozone decomposition reaction have been estimated. It has been found that the more is chloride ion number in the copper(II) coordination sphere, the higher activities have the corresponding complexes. The ozone decomposition mechanism has been proposed.озонразложение озонаимпрегнированиемеханизмрозклад озонуімпрегнуваннямеханізмozoneozone decompositionimpregnationmechanismArticle