Smyntyna, Valentyn A.Kulinich, O. A.Yatsunskiy, I. R.Marchuk, I. A.Pavlenko, Mykola V.Смынтына, Валентин АндреевичКулинич, О. А.Яцунский, Игорь РостиславовичМарчук, И. А.Павленко, Николай НиколаевичСминтина, Валентин АндрійовичКулініч, О. А.Яцунський, Ігор РостиславовичМарчук, І. О.Павленко, Микола Миколайович2012-05-252012-05-252011Фотоэлектроника = Photoelectronicshttps://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/2479Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2011. - англ.Fractal analysis was applied to images of nanostructured silicon surfaces which were acquired with a scanning electron microscope.A fractal model describing nanostructured silicon surfaces morphology is elaborated.It were obtained the numerical results for the fractal dimensions for 2 samples with different nanostructured shapes.Фрактальный анализ был применен для исследования электронных изображений наноструктурированных поверхностей кремния, определения их морфологических особенностей. Были получены значения фрактальной размерности для двух образцов с различной формой наноструктурирования.Фрактальний аналіз був застосований для дослідження електронних зображень наноструктурованих поверхонь кремнію, визначення їх морфологічних особливостей. Були отримані значення фрактальної розмірності для двох зразків з різною формою наноструктуровання.ennanostructured siliconfractal analysisнаноструктурированный кремнийфрактальный анализнаноструктурований кремнійфрактальний аналізArticle