Lepikh, Yaroslav I.Glushkov, A. V.Khetselius, O. Yu.Loboda, A. V.Лепіх, Ярослав ІллічЛепих, Ярослав Ильич2013-12-172013-12-1720083-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.https://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/41063-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.: Тези доповідей. - Одеса: Астропринт, 2008.- 400 с.Selective photo-ionization and photo-dissociation of molecules method is supposed to be very much perspective method for cleaning materials from molecular admixtures and other applications. For example, the laser cleaning mono-silan is of a great interest for obtaining a poor Si in the semiconductor industry.enphotoexcitation of moleculesphotodissociation of moleculescleansing semiconductor materialsArticle