EFFECT OF AMBIENT ATMOSPHERE ON THE SURFACE CURRENT IN SILICON P-N JUNCTIONS

dc.contributor.authorPtashchenko, Oleksandr O.
dc.contributor.authorPtashchenko, Fedir O.
dc.contributor.authorYemets, O. V.
dc.contributor.authorПтащенко, Александр Александрович
dc.contributor.authorПтащенко, Федор Александрович
dc.contributor.authorЕмец, Е. В.
dc.contributor.authorПтащенко, Олександр Олександрович
dc.contributor.authorПтащенко, Федір Олександрович
dc.contributor.authorЄмець, О. В.
dc.date.accessioned2010-09-09T11:00:08Z
dc.date.available2010-09-09T11:00:08Z
dc.date.issued2009
dc.descriptionФотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2009.uk
dc.description.abstractThe influence of ammonia, water and ethylene vapors on I-V characteristics of forward and reverse currents, as well as on the kinetics of the surface current in silicon p-n structures was studied. All these vapors enhance both the forward and reverse currents. The gas sensitivity of p-n structures at forward biases is due to enhanced surface recombination, while at reverse biases a surface conductive channel shorts the p-n junction. The sensitivity to ammonia is much higher than to other vapors. It is explained as a result of donor properties of NH molecules. The response time of silicon p-n junctions as gas sensors at room temperature is below 60s. Исследовано влияние паров аммиака, воды и этилена на ВАХ прямого и обратного токов, а также на кинетику поверхностного тока в кремниевых p-n структурах. Все указанные пары повышают и прямой, и обратный токи. Газовая чувствительность p-n структур при прямом смещении обусловлена ростом интенсивности поверхностной рекомбинации, а при обратном смещении проводящий канал закорачивает p-n переход. Чувствительность к аммиаку значительно выше, чем к другим парам. Это объясняется донорными свойствами молекул NH3. Время срабатывания кремниевых p-n переходов как газовых сенсоров при комнатной температуре не превышает 60 с. Досліджено вплив парів аміаку, води і етилену на ВАХ прямого і зворотного струмів, а також на кінетику поверхневого струму в кремнієвих p-n структурах. Всі указані пари підвищують і прямий, і зворотний струми. Газова чутливість p-n структур при прямому зміщенні обумовлена зростанням інтенсивності поверхневої рекомбінації, а при зворотному зміщенні провідний канал закорочує p-n перехід. Чутливість до аміаку значно вища, ніж до інших парів. Це пояснюється донорними властивостями молекул NH3. Час спрацювання кремнієвих p-n переходів як газових сенсорів при кімнатній температурі не перевищує 60 с.uk
dc.identifier.citationФотоэлектроника = Photoelectronicsuk
dc.identifier.urihttps://dspace.onu.edu.ua/handle/123456789/252
dc.language.isoenuk
dc.publisherАстропринтuk
dc.relation.ispartofseries;№ 18. - С. 28 - 32.
dc.subjectambient atmosphereuk
dc.subjectsurface currentuk
dc.subjectsiliconuk
dc.subjectповерхностный токuk
dc.subjectокружающая атмосфераuk
dc.subjectкремнийuk
dc.subjectповерхневий струмuk
dc.subjectнавколишня атмосфераuk
dc.subjectкремнійuk
dc.titleEFFECT OF AMBIENT ATMOSPHERE ON THE SURFACE CURRENT IN SILICON P-N JUNCTIONSuk
dc.title.alternativeВЛИЯНИЕ ОКРУЖАЮЩЕЙ АТМОСФЕРЫ НА ПОВЕРХНОСТНЫЙ ТОК В КРЕМНИЕВЫХ P-N ПЕРЕХОДАХuk
dc.title.alternativeВПЛИВ НАВКОЛИШНЬОЇ АТМОСФЕРИ НА ПОВЕРХНЕВИЙ СТРУМ У КРЕМНІЄВИХ P-N ПЕРЕХОДАХuk
dc.typeArticleuk
Файли
Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
fotoel_18_2009_28-32.pdf
Розмір:
113.02 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
1.82 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Зібрання