Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106
Назва: LASER PHOTOEXCITATION AND PHOTODISSOCIATION OF MOLECULES: OPTIMIZED SCHEMES FOR CLEANSING SEMICONDUCTOR MATERIALS FROM ADMIXTURES
Автори: Lepikh, Yaroslav I.
Glushkov, A. V.
Khetselius, O. Yu.
Loboda, A. V.
Лепіх, Ярослав Ілліч
Лепих, Ярослав Ильич
Бібліографічний опис: 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.
Дата публікації: 2008
Видавництво: Астропринт
Ключові слова: photoexcitation of molecules
photodissociation of molecules
cleansing semiconductor materials
Серія/номер: ;С. 281
Короткий огляд (реферат): Selective photo-ionization and photo-dissociation of molecules method is supposed to be very much perspective method for cleaning materials from molecular admixtures and other applications. For example, the laser cleaning mono-silan is of a great interest for obtaining a poor Si in the semiconductor industry.
Опис: 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.: Тези доповідей. - Одеса: Астропринт, 2008.- 400 с.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106
Розташовується у зібраннях:Статті та доповіді ФМФІТ

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
281.pdf12.12 kBAdobe PDFЕскіз
Переглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.