Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106
Назва: | LASER PHOTOEXCITATION AND PHOTODISSOCIATION OF MOLECULES: OPTIMIZED SCHEMES FOR CLEANSING SEMICONDUCTOR MATERIALS FROM ADMIXTURES |
Автори: | Lepikh, Yaroslav I. Glushkov, A. V. Khetselius, O. Yu. Loboda, A. V. Лепіх, Ярослав Ілліч Лепих, Ярослав Ильич |
Бібліографічний опис: | 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р. |
Дата публікації: | 2008 |
Видавництво: | Астропринт |
Ключові слова: | photoexcitation of molecules photodissociation of molecules cleansing semiconductor materials |
Серія/номер: | ;С. 281 |
Короткий огляд (реферат): | Selective photo-ionization and photo-dissociation of molecules method is supposed to be very much perspective method for cleaning materials from molecular admixtures and other applications. For example, the laser cleaning mono-silan is of a great interest for obtaining a poor Si in the semiconductor industry. |
Опис: | 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.: Тези доповідей. - Одеса: Астропринт, 2008.- 400 с. |
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106 |
Розташовується у зібраннях: | Статті та доповіді ФМФІТ |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
281.pdf | 12.12 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.