Please use this identifier to cite or link to this item:
http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106| Title: | LASER PHOTOEXCITATION AND PHOTODISSOCIATION OF MOLECULES: OPTIMIZED SCHEMES FOR CLEANSING SEMICONDUCTOR MATERIALS FROM ADMIXTURES |
| Authors: | Lepikh, Yaroslav I. Glushkov, A. V. Khetselius, O. Yu. Loboda, A. V. Лепіх, Ярослав Ілліч Лепих, Ярослав Ильич |
| Citation: | 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р. |
| Issue Date: | 2008 |
| Publisher: | Астропринт |
| Keywords: | photoexcitation of molecules photodissociation of molecules cleansing semiconductor materials |
| Series/Report no.: | ;С. 281 |
| Abstract: | Selective photo-ionization and photo-dissociation of molecules method is supposed to be very much perspective method for cleaning materials from molecular admixtures and other applications. For example, the laser cleaning mono-silan is of a great interest for obtaining a poor Si in the semiconductor industry. |
| Description: | 3-я Міжнародна науково-технічна конференція. Сенсорна елетроніка і мікросистемні технології (СЕМСТ-3). Україна, Одеса, 2-6 червня 2008 р.: Тези доповідей. - Одеса: Астропринт, 2008.- 400 с. |
| URI: | http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/4106 |
| Appears in Collections: | Статті та доповіді ФМФІТ |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.