INVESTIGATION OF NANOSTRUCTURED SILICON SURFACES USING FRACTAL ANALYSIS
Вантажиться...
Дата
2011
Науковий керівник
Укладач
Редактор
Назва журналу
Номер ISSN
Номер E-ISSN
Назва тому
Видавець
Astroprint
Анотація
Fractal analysis was applied to images of nanostructured silicon surfaces which were acquired with a scanning electron
microscope.A fractal model describing nanostructured silicon surfaces morphology is elaborated.It were obtained the numerical results for the fractal dimensions for 2 samples with different nanostructured shapes.
Фрактальный анализ был применен для исследования электронных изображений наноструктурированных поверхностей кремния, определения их морфологических особенностей. Были получены значения фрактальной размерности для двух образцов с различной формой наноструктурирования.
Фрактальний аналіз був застосований для дослідження електронних зображень наноструктурованих поверхонь кремнію, визначення їх морфологічних особливостей. Були отримані значення фрактальної розмірності для двох зразків з різною формою наноструктуровання.
Фрактальный анализ был применен для исследования электронных изображений наноструктурированных поверхностей кремния, определения их морфологических особенностей. Были получены значения фрактальной размерности для двух образцов с различной формой наноструктурирования.
Фрактальний аналіз був застосований для дослідження електронних зображень наноструктурованих поверхонь кремнію, визначення їх морфологічних особливостей. Були отримані значення фрактальної розмірності для двох зразків з різною формою наноструктуровання.
Опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2011. - англ.
Ключові слова
nanostructured silicon, fractal analysis, наноструктурированный кремний, фрактальный анализ, наноструктурований кремній, фрактальний аналіз
Бібліографічний опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics