INVESTIGATION OF NANOSTRUCTURED SILICON SURFACES USING FRACTAL ANALYSIS

Альтернативна назва
ИССЛЕДОВАНИЕ НАНОСТРУКТУРИРОВАННОЙ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ МЕТОДАМИ ФРАКТАЛЬНОГО АНАЛИЗА
ДОСЛІДЖЕННЯ НАНОСТРУКТУРОВАНОЇ ПОВЕРХНІ КРЕМНІЮ МЕТОДАМИ ФРАКТАЛЬНОГО АНАЛІЗУ
Анотація
Fractal analysis was applied to images of nanostructured silicon surfaces which were acquired with a scanning electron microscope.A fractal model describing nanostructured silicon surfaces morphology is elaborated.It were obtained the numerical results for the fractal dimensions for 2 samples with different nanostructured shapes.
Фрактальный анализ был применен для исследования электронных изображений наноструктурированных поверхностей кремния, определения их морфологических особенностей. Были получены значения фрактальной размерности для двух образцов с различной формой наноструктурирования.
Фрактальний аналіз був застосований для дослідження електронних зображень наноструктурованих поверхонь кремнію, визначення їх морфологічних особливостей. Були отримані значення фрактальної розмірності для двох зразків з різною формою наноструктуровання.
Опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2011. - англ.
Ключові слова
nanostructured silicon, fractal analysis, наноструктурированный кремний, фрактальный анализ, наноструктурований кремній, фрактальний аналіз
Бібліографічний опис
Фотоэлектроника = Photoelectronics
DOI
ORCID:
УДК
Зібрання