Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/2239
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorТерлецкая, Л. Л.-
dc.contributor.authorКопыт, Николай Харламович-
dc.contributor.authorГолубцов, Вячеслав Васильевич-
dc.contributor.authorТерлецька, Л. Л.-
dc.contributor.authorКопит, М. Х.-
dc.contributor.authorГолубцов, В. В.-
dc.contributor.authorTerletskaya, L. L.-
dc.contributor.authorKopyt, Mykola Kh.-
dc.contributor.authorGolubtsov, V. V.-
dc.date.accessioned2012-02-03T11:21:24Z-
dc.date.available2012-02-03T11:21:24Z-
dc.date.issued2010-
dc.identifier.citationФизика аэродисперсных систем: межвед.научный сборник / Одесский национальный университет имени И.И. Мечникова. - Одесса,2010uk
dc.identifier.urihttp://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/2239-
dc.descriptionФизика аэродисперсных систем: межвед.научный сборник / Одесский национальный университет имени И.И. Мечникова. - Одесса,2010uk
dc.description.abstractРассмотрены особенности получения подложек GaAs с улучшенными структурными электрофизическими параметрами для сенсоров. Розработаны оптимальные технологические режимы процессов изотермической обработки и обработки исходных пластин в поле градиента температур, способствуюих значительному снижению плотности дислокаций и уменьшению объемной доли проводящих неоднородностей. Комплексное применение разработаных методов предназначено для оптимизации технологии получения подложек GaAs в производстве сенсоров и повышения их надежности.uk
dc.description.abstractРозглянуто особливості отримання підкладинок GaAs з поліпшеними структурними та електрофізичними параметрами для сенсорів. Розроблено оптимальні режими процесів ізотермічної оброботки та обробки пластин у полі градієнта температур, що сприяють значному зменшенню щільності дислокацій та об'ємної частки провідних неоднорідностей. Комплексне застосування розроблених методів призначено для оптимізації технології отримання підкладинок GaAs у виробництві сенсорів з підвищеною надійністюuk
dc.publisherОдесский национальный университет им.И.И. Мечниковаuk
dc.relation.ispartofseries;вып.47, С.154-159-
dc.subjectсенсорuk
dc.subjectтехнологические режимыuk
dc.subjectпроцессuk
dc.subjectплотностьuk
dc.subjectсенсорuk
dc.subjectтехнологічний режимuk
dc.subjectпроцесuk
dc.subjectщільністьuk
dc.titleОсобенности улучшения структурно-чувствительных параметров сенсоров на основе гетерогенных дисперсных системuk
dc.title.alternativeОсобливості поліпшування структурно-чутливих параметрів сенсорів на основі гетерогенних дисперсних системuk
dc.title.alternativeThe features of structure-sensitives parameters improvement of heterogeneous dispersion system-base sensorsuk
dc.typeArticleuk
Appears in Collections:Фізика аеродисперсних систем

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
154-159.pdf118.64 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.