DSpace О системе DSpace
україн русск eng
[Зарегистрироваться]
 

Repository at Odesa I.Mechnikov National University >
Фізичний факультет >
Фотоэлектроника = Photoelectronics >

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/200

Название: FEATURES OF CO-OPERATION OF COMPONENTS IN HETERO-PHASE SYSTEMS OF “GLASS- Pb2Ru2O7-x, RuO2”
Другие названия: ОСОБЕННОСТИ ВЗАИМОДЕЙСТВАИЯ КОМПОНЕНТОВ В ГЕТЕРОФАЗНЫХ СИСТЕМАХ “СТЕКЛО — - Pb2Ru2O7-x,RuO2“
ОСОБЛИВОСТІ ВЗАЄМОДІЇ КОМПОНЕНТІВ У ГЕТЕРОФАЗНИХ СИСТЕМАХ “СКЛО — - Pb2Ru2O7-x, RuO2 “
Авторы: Rurmashev, Sh. D.
Bugaeva, T. N.
Lavrenova, T. I.
Sadova, N. N.
Курмашев, Ш. Д.
Бугаева, Т.,Н.
Лавренова, Т. И.
Садова, Н. Н.
Бугаєва, Т.,Н.
Ключевые слова: RuO2 resistive pastes
Pb2Ru2O7-x compounds
hetero-phase systems.
рутенит свинца
туннелирование электронов
гетерофазные системы
рутеніт свинця
тунелювання электронів
гетерофазні системи
Дата публикации: 2010
Издатель: Астропринт
Источник: Фотоэлектроника = Photoelectronics
Серия/номер: ;№ 19. - P. 82 - 84.
Краткий осмотр (реферат): Resistance pastes on basis RuO2 differ by a relative chemical inactivity Large maintenance of oxide of the coniferous forest and high acidity of glasses, is principal reason of chemical decomposition of Pb2Ru2O7-x and formation of dioxide of ruthenium at burning of the hetero-phase systems As the physical mechanism of current-conduction the transfer of electrons is credible between separate conducting corns by means of thermic-emission emission supposing the presence of activating process. Резистивные пасты на основе RuO2 отличаются относительной химической инертностью. Большое содержание оксида бора и высокая кислотность стёкол — основная причина химического разложения рутенита свинца и образования диоксида рутенита при обжиге гетерофазных систем. В качестве физического механизма токопротекания вероятен перенос электронов между отдельными проводящими зёрнами посредством термоэлектронной эмиссии, предполагающей наличие активационного процесса. Также наблюдался механизм туннелирования электронов. Резистивні пасти на основі RuO2 характеризуються відносною хімічною інертністю. Великий склад оксиду бора і висока кислотність скла — основна причина хімічного розкладу рутеніта свинця і утворення діоксида рутеніта при обжигу гетерофазних систем. В якості фізичного механізму струмопротікання вирогіден перенос электронів проміж окремими провідними зернами за допомогою термоелектронної емісії, при наявності активаційного процесу. Також спостерігався механізм тунелювання электронів.
Описание: Фотоэлектроника = Photoelectronics / ОНУ имени И. И. Мечникова. - Одесса : Астропринт,2010. - Вып. 19. - 2010.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://dspace.onu.edu.ua:8080/handle/123456789/200
Располагается в коллекциях:Фотоэлектроника = Photoelectronics

Файлы этого ресурса:

Файл Описание РазмерФормат
fotoel_19_2010_82-84.pdf62,04 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
View Statistics

Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.

 

п╞пҐпЄп╣п╨я│ я├п╦я┌п╦я─п╬п╡п╟пҐп╦я▐ DSpace Software Copyright © 2002-2005 MIT and Hewlett-Packard - Обратная связь